High-power Laser Mirror 高耐力レーザミラー(標準仕様)

  • 特徴                          製品のカタログ

  • 半導体リペア装置・レーザ加工機向けで、誘電体多層膜を反射膜に採用し、特定の波長を高反射させるミラーです。このレーザミラーは光の吸収・散乱が抑えられ特定波長において反射率が99%〜99.99%以上と高い反射率を実現します。ご要求に合わせ最適なプロセスを選択することにより、高エネルギー耐力が要求される パーシャルミラー、共振ミラー等、カスタムでの製作対応も可能です。
  • レーザミラー標準仕様

    品番 寸法 公差 波長範囲 入射角 仕様
    LM-1.064 φ25×6.0t 外径 +0/-0.2
    厚み ±0.1
    1064nm 45deg R>99%
    LMW-0.532
    /1.064
    φ25×6.0t 外径 +0/-0.2
    厚み ±0.1
    532/1064nm 45deg R>98/99%
    LMW-0.532
    /0.633
    φ25×6.0t 外径 +0/-0.2
    厚み ±0.1
    532/633nm 45deg R>98/40%
    LMT-0.532
    /0.65/1.064
    φ25×6.0t 外径 +0/-0.2
    厚み ±0.1
    532/650
    /1064nm
    45deg R>98%
    /90%/99%
    LM-0.355 φ25×6.0t 外径 +0/-0.2
    厚み ±0.1
    355nm 45deg R>99%
    ※有効範囲φ23以上、基板はBK7、石英より選択可能
  • LM-1.064

  • LMW-0.532/1.064

  • LMW-0.532/0.633

  • LMT-0.532/0.65/1.064

  • LM-0.355

  • レーザ耐力評価試験条件

    パルス幅 10ns (1064nm)
    8ns (532nm)
    9ns (355nm)
    照射角度 45deg
    偏光 P
    評価方法 1-on-1
    ビームサイズ
    (1/e2)
    横 470mm,縦 480mm (1064nm)
    横 264mm,縦 260mm (532nm)
    横 200mm,縦 200mm (355nm)
  • レーザ耐力評価試験結果

    品番 波長 パルス幅
    (ns)
    DTp
    (J/cm2)
    LM-1.064 1064nm 10 294
    LMW-0.532/1.064 532nm
    1064nm
    8
    10
    31
    144
    LMW-0.532/0.633 532nm 8 38
    LMT-0.532/0.65/1.064 532nm 8 45
    LM-0.355 355nm 9 28
    (※代表測定結果)
  • 製品のカタログ
  • 掲載している製品形状、特性は一例です。お望みの仕様をご連絡下さい。